使用可能なLSIファウンダリー、LSIプロセス技術
活用可能なLSIファウンダリー:STMicroelectronics, TSMC, Maxim, CSM, NEC山形、など

1.STMicroelectronics
 
・0.35um SiGe-BiCMOS (BiCMOS6G):
SiGe-Bipolar(NPN) fT=45GHz, V-PNP fT=4GHz
・0.25um SiGe-BiCMOS (BiCMOS7RF):
SiGe-Bipolar(NPN) fT=70GHz, V-PNP fT=6GHz RF用Power-Tr, LNA用低雑音Tr
・0.13um SiGe-BiCMOS (BiCMOS9):
SiGe-Bipolar(NPN) fT=160GHz, BVCEO=1.7V
・0.13um SiGe-BiCMOS (HCMOS9SiGe):
SiGe-Bipolar(NPN) fT=45GHz, BVCEO=4V
・0.5um BCD (BCD5):
大電流用DMOS, 低速Bipolar, CMOSを混載
・0.5um BiCMOS (HF5CMOS):
CMOSとComplementary Bipolarの混載,
Bipolar(NPN)fT=7GHz, BVCEO=15V, V-PNP fT=4.5GHz, BVCEO=18V
※弊社での設計実績はございませんが、90nm、45nm技術の対応も可能です。

STMが提供するASIC Solution
STMが提供するLSI Technologyリスト

2.CSM(Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd.)
  ・0.6umBiCMOSプロセス

3.NEC山形
  ・0.5um Complementary Bipolar プロセス(DC1A:BVceo≒10V)